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单台3.5亿欧元！ASML展示High NA EUV光刻机：2026年将大规模商用
作者：编辑 来源：未知 时间：2024-2-14
| ☞ 近日，全球光刻机大厂ASML首次在其荷兰总部向媒体公开展示了最新一代的High NA EUV光刻机, 除了已经率先获得全球 首台High NA EUV光刻机的英特尔之外，台积电和三星订购High NA EUV预计最快2026年陆续到位。 ☞ 届时High NA EUV将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备“武器”。 ☞ 一套High NA EUV光刻系统的重量更高达150吨，全套系统需要250个货箱来装运，装机时间预计需要250名工程人员、历时6个月才能安装完成，High NA EUV的售价高达3.5亿欧元一台。 |
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刘冬
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金万河
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